日本filmetrics膜厚測量系統(tǒng)F20 測厚儀
更新日期：2024-05-15
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簡要描述：
日本filmetrics膜厚測量系統(tǒng)F20一種行業(yè)標準、低價、多功能的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng)，已在全球安裝了 5,000 多臺。它可用于從研發(fā)到制造現(xiàn)場在線測量的廣泛應用。
日本filmetrics膜厚測量系統(tǒng)F20
一種行業(yè)標準、低價、多功能的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng)，已在全球安裝了 5,000 多臺。它可用于從研發(fā)到制造現(xiàn)場在線測量的廣泛應用。
F20基于光學干涉法可在1秒左右輕松測量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系數(shù)。
它還支持多點在線測量，并支持RS-232C和TCP/IP等外部通訊，因此可以通過PLC或上位機進行控制。
主要特點
支持廣泛的薄膜厚度范圍（1 nm 至 250 μm）
支持寬波長范圍（190nm 至 1700nm）
強大的膜厚分析
光學常數(shù)分析（折射率/消光系數(shù)）
緊湊的外殼
支持在線測量
主要應用
| 平板 | 單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR膜、 各種光學膜等。 |
|---|---|
| 半導體 | 抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等 |
| 光學鍍膜 | 防反射膜、硬涂層等 |
| 薄膜太陽能電池 | CdTe、CIGS、非晶硅等 |
| 砷化鋁鎵（AlGaAs）、磷化鎵（GaP）等 | |
| 醫(yī)療 | 鈍化、藥物涂層等 |
產品陣容
| 模型 | F20-UV | F20 | F20-近紅外 | F20-EXR | F20-UVX |
|---|---|---|---|---|---|
| 測量波長范圍 | 190 – 1100nm | 380 – 1050nm | 950 – 1700nm | 380 – 1700nm | 190 – 1700nm |
| 膜厚測量范圍 | 1nm – 40μm | 15nm – 70μm | 100nm – 250μm | 15nm – 250μm | 1nm – 250μm |
| 準確性* | ± 0.2% 薄膜厚度 | ± 0.4% 薄膜厚度 | ± 0.2% 薄膜厚度 | ||
| 1納米 | 2納米 | 3納米 | 2納米 | 1納米 | |
| 測量光斑直徑 | 支持高達1.5 毫米或 0.5 毫米 最小 0.1 毫米（可選） | ||||
| 光源 | 氘· 鹵素 | 鹵素 | 氘· 鹵素 | ||
* Filmometry 提供的測量 Si 基板上的 SiO2 膜時器件主體的精度。
